| CYRANNUS®-Komponenten | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| EH-Tuner | KF-Schottverschraubung | Beheizter Substrathalter | Bias-Elektrode | ||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
|
|
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| EH-Tuner
Der EH-Tuner dient der Abstimmung der CYRANNUS®-Plasmaquellen oder anderer Mikrowellen-Anwendungen. Ein Tuning der Mikrowellenleistung ist erforderlich, weil sich die Impedanz einer Anlage mit verschiedenen Parametern der Plasmaquelle und mit den Plasmaeigenschaften ändert. Grundsätzlich sollte davon ausgegangen werden, dass eine Änderung von Plasmaprozessen eine Neuabstimmung nötig macht.
Verschiedene Abstimmungs-Modi stehen zur Wahl:
KF-Schottverschraubungen dienen zur sicheren Durchführung von ISO-KF- Vakuum Leitungen durch Montageplatten und Trennwände. Alle KF-Schottverschraubungen verfügen über eine Dichtung, welche die Montagebohrung in der Platte nach dem Einbau der KF-Schottverschraubung wieder abdichtet.
KF-Schottverschraubungen sind in folgenden Ausführungen lieferbar:
* auf Anfrage
Substrathalter
zur Aufnahme von flachen Substraten wie z.B. Wafer oder Bleche. Der
Substrathalter ist vakuumtauglich und für den Einsatz in
Plasmaanlagen geeignet. Die hauptsächlich verwendeten Materialien
sind Edelstahl, Molybdän und Keramik. Der runde Aufbau
ermöglicht ein einfaches Rotieren des Halters. Eine
Molybdänplatte dient der Substrataufnahme. Die elektrische und
thermische Isolation zum übrigen Halter ist durch Keramikringe
gewährleistet. Die Heizung des Substrathalters erfolgt über eine integrierte vollkeramische Heizplatte aus Siliziumnitrid. Zur Temperaturregelung wird ein Regelgerät mitgeliefert. Die Temperatur der Molybdänplatte wird von einem Thermoelement erfasst.
Die Bias-Elektrode mit einer Spitze aus Molybdän dient zur Bekeimung von Substraten in Plasmaanwendungen.
|
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||